에프에스티 실적 분석: EUV 펠리클 대장주 칠러 장비 전망과 리스크
에프에스티 실적 분석: 펄펄 끓는 EUV의 심장을 식히고 마스크를 수호하는 빛의 방패 “EUV(극자외선)는 세상의 모든 물질에 흡수되는 까다로운 성질을 가졌습니다. 그래서 반도체 회로를 그릴 때, 원본 도면(포토마스크) 위에 먼지가 앉는 것을 막기 위해 아주 얇은 덮개를 씌워야 하죠. 문제는 이 덮개가 EUV 빛을 90% 이상 통과시켜야 하면서 동시에 1,000도가 넘는 열을 견뎌야 한다는 겁니다. 일본과 … 더 읽기