에프엔에스테크 실적 분석: 반도체 CMP 패드 전망과 듀폰 리스크

에프엔에스테크 실적 분석: 1나노 팹의 표면을 갈아내는 CMP 패드 팩트 체크 “반도체를 100층 이상 쌓아 올리려면, 단 한 층이라도 울퉁불퉁해서는 안 됩니다. 이전 층에 물질을 증착하고 나면, 다음 층을 올리기 전에 웨이퍼 표면을 완벽한 평면으로 갈아내는 ‘CMP(화학적 기계적 연마)’ 공정이 반드시 필요합니다. 이때 웨이퍼와 직접 맞닿아 표면을 물리적으로 갈아내는 핵심 소모품이 바로 폴리우레탄 재질의 ‘CMP … 더 읽기

케이씨텍 실적 분석: 반도체 CMP 장비 대장주 HBM 수혜와 리스크

케이씨텍 실적 분석: HBM을 쌓기 위한 완벽한 평탄화, CMP 장비 팩트 체크 “초고층 빌딩을 올릴 때 가장 중요한 것은 층마다 바닥이 완벽하게 평평해야 한다는 것입니다. 반도체도 마찬가지입니다. 회로를 그리고 위로 쌓아 올릴 때, 웨이퍼 표면이 나노 단위로라도 울퉁불퉁하면 다음 층의 회로가 끊어지거나 칩이 붙지 않습니다. 이 표면을 화학 용액과 물리적 마찰로 갈아내어 거울처럼 평평하게 만드는 … 더 읽기