뉴파워프라즈마 기업분석: 반도체 플라즈마 세정(RPG)·RF 제어 전망과 리스크

뉴파워프라즈마 기업분석: 1나노 팹의 챔버를 씻어내는 플라즈마 번개 팩트 체크 “초고온의 오븐에서 빵을 수백 번 구워내면 오븐 벽면에 탄 찌꺼기가 눌어붙듯, 반도체 웨이퍼 위에 화학 박막을 증착(CVD/ALD)하고 나면 챔버 내벽에는 치명적인 화학 부산물이 가득 쌓입니다. 이 찌꺼기를 제때 닦아내지 않으면 미세 파티클로 떨어져 수억 원짜리 웨이퍼를 전량 폐기해야 합니다. 하지만 뜨거운 진공 챔버를 매번 식히고 … 더 읽기

지오엘리먼트 기업분석: 반도체 ALD 전구체 캐니스터 전망과 리스크

지오엘리먼트 기업분석: 1나노 팹의 가장 비싼 연료통을 지배하는 초음파 센서 팩트 체크 “우주발사체가 궤도에 진입하려면 엔진의 성능만큼이나 ‘연료통 내부의 미세한 잔량과 기화 상태’를 통제하는 것이 중요합니다. 1나노미터 반도체 팹(Fab)에서도 마찬가지입니다. 수백억 원짜리 ALD(원자층증착) 장비가 웨이퍼에 원자 한 겹을 바르기 위해서는, 1kg에 수천만 원을 호가하는 고체/액체 상태의 ‘프리커서(전구체)’를 가스 상태로 완벽히 기화시켜 챔버에 불어넣어야 합니다. 이때 … 더 읽기