에스앤에스텍 실적 분석: EUV 펠리클 대장주 단기 장기 전망과 국산화 리스크

에스앤에스텍 실적 분석: 1,500억 원짜리 EUV 장비를 지키는 ‘방탄조끼’ 팩트 체크 “ASML이 독점 공급하는 EUV(극자외선) 노광 장비는 한 대에 1,500억 원에서 3,000억 원을 호가합니다. 문제는 이 장비 안에서 반도체 회로를 그려 넣는 원판(포토마스크) 역시 수억 원에 달하는데, 미세한 먼지 하나만 묻어도 원판 전체를 버려야 한다는 것입니다. 삼성전자와 TSMC는 이 수억 원짜리 원판을 보호하기 위해 빛은 … 더 읽기

한솔케미칼 실적 분석: 삼성의 ‘보이지 않는 피’ 반도체 과산화수소와 배터리 10년 전망

한솔케미칼 실적 분석: 반도체·배터리·디스플레이 3대 핵심 소재 독점력 팩트 체크 “삼성전자의 평택 반도체 팹(Fab) 하나가 하루에 소비하는 물과 화학물질의 양은 중소도시 전체의 사용량과 맞먹습니다. 수천 개의 공정을 거치며 웨이퍼를 씻고 또 씻어낼 때, 불순물이 0.000000001%라도 섞인 세정액을 쓰면 수조 원의 반도체가 한순간에 고철로 변합니다. 이 극한의 순도를 통제하며 삼성과 SK하이닉스의 혈관에 ‘초고순도 과산화수소’를 주입하는 진정한 … 더 읽기

HBM 소재 관련주 솔브레인, 식각액 독점력과 단가 인하 리스크 핵심 정리

솔브레인 실적 분석: HBM 공정의 핵심 조연, 식각과 세정 소재의 팩트 체크 “반도체 회로를 아무리 미세하게 그려내더라도, 그 위를 덮고 있는 불필요한 물질들을 완벽하게 깎아내지(Etching) 못하면 그 칩은 고철 덩어리에 불과합니다.” 반도체 공정이 초미세화되고 HBM처럼 칩을 수직으로 높게 쌓아 올릴수록, 웨이퍼의 손상 없이 타깃 물질만 정교하게 제거하는 고순도 식각액과 세정액의 수요는 기하급수적으로 폭발합니다. 그 중심에서 … 더 읽기

반도체 EUV 소재 대장주 동진쎄미켐, 포토레지스트 국산화 모멘텀과 투자 지연 리스크 핵심 정리

동진쎄미켐 실적 분석: 일본 독점을 깬 EUV 포토레지스트, 반도체 초미세 공정 소재의 팩트 체크 “반도체 회로를 그리는 데 필수적인 감광액(포토레지스트) 공급이 끊기면, 수백조 원을 투자한 반도체 공장이 그대로 멈춰 선다는 사실을 알고 계십니까?” 2019년 일본의 수출 규제 사태 이후, 대한민국 반도체 산업의 가장 시급한 과제는 핵심 소재의 국산화였습니다. 그 최전선에서 범용 소재인 KrF, ArF를 넘어 … 더 읽기